رسوب نشانی شیمیایی از بخار به کمک پلاسما (PACVD)

همان طور که از نام گذاری این روش مشخص است: طی رسوب نشانی شیمیایی از بخار به کمک پلاسما برخی از مواد حاصل از واکنش شیمیایی در فاز بخار و در محیط پلاسما روی سطح قطعات و ابزار آلات فولادی رسوب داده می شوند که با توجه به سختی، استحکام و مقاومت به سایش فوق العاده بالایی که دارند باعث افزایش چشمگیر عمر و کارآیی ابزار آلات و قطعات می شوند.

نکته حائز اهمیت وجود پلاسما در این فرآیند می باشد که عاملی است برای پایین آمدن دمای عملیات از بالای 900 درجه سانتیگراد (در روش معمولی (CVD) ) به کمتر از 500 درجه سانتیگراد و با توجه به این موضوع می توان گستره وسیعی از فولادها را مورد پوشش دهی قرار داد.

برخی خواص پوشش های ایجاد شده به روش PACVD

  • سختی بالای 2000 ویکرز
  • چسبندگی و استحکام فوق العاده بالا
  • ضریب اصطکاک کم و مقاومت به سایش بالا
  • پایداری پوشش تا دماهای 400 الی 700 درجه سانتیگراد (بسته به نوع پوشش)

رسوب نشانی شیمیایی از بخار به کمک پلاسما PACVD

رسوب نشانی فیزیکی از بخار (PVD)

در این روش، ایجاد پوشش روی سطوح جامد به وسیله چگالش عنصرها و ترکیبها از فاز گازی صورت می‌گیرد. تبخیر در خلاء، عمومی ترین روش ایجاد لایه های بسیار خالص و تحت شرایط نسبتا کنترل شده می‌باشد. علیرغم اینکه رسوب نشانی فیزیکی از بخار ممکن است در بعضی موارد با واکنش‌های شیمیایی همراه باشد عموماً اصول این روش بر اساس اثرهای کاملاً فیزیکی پایه ریزی می شود.

مراحل رسوب نشانی فیزیکی از بخار به شرح زیر است:

  • تبدیل ماده تبخیری به حالت گازی از طریق تبخیر یا تصعید و یا کندوپاش کاتدی
  • انتقال اتمها (مولکول ها) از چشمه تبخیر به زیرلایه، در فشار کاهش یافته
  • رسوب این ذره ها روی زیرلایه
  • بازآرایی پیوند اتمها روی سطح زیرلایه

در حالت کلی تر می توان گفت مکانیزیم اصلی در فرایندPVD، جداکردن اتم از سطح می باشد که به وسیله: اشعه، باریکه الکترونی، حرارت صورت می گیرد و یا اینکه یونی به سطح برخورد کرده و سبب پرتاب اتم از ماده هدف می شود.

روش های متعددی برای رسوب نشانی فیزیکی ازبخار وجود دارد که دارای مکانیزیم های نسبتاً مشابهی هستند: فرایندهای تبخیری که شامل تبخیز با فیلامان حرارتی، تبخیز با اشعه الکترونی، تبخیر با استفاده از انرژی لیزر، رسوب گذاری با بهره گیری از پرتوی یونی و غیره می باشد.